Sophie Scharinger

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  Atomic-Scale Oxygen-Mediated Etching of 2D MoS₂ and MoTe₂

  Ahlgren, E. H., Markevich, A., Scharinger, S., Fickl, B., Zagler, G., Herterich, F., McEvoy, N., Mangler, C. & Kotakoski, J., 14 Nov. 2022, in: Advanced Materials Interfaces. 9, 32, 9 S., 2200987.

  Veröffentlichungen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Peer Reviewed

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