Simulation of ion beam direct structuring for 3D nanoimprint template fabrication

Elmar Platzgummer (Korresp. Autor*in), Albert Biedermann, H. Langfischer, Stefan Eder-Kapl, Marco Kümmel, Stefan Cernusca, Hans Löschner, C. Lehrer, L. Frey, Alois Lugstein, Emmerich Bertagnolli

    Veröffentlichungen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelPeer Reviewed

    Abstract

    A software tool ("Ionshaper") has been developed which allows calibrated high precision simulation of ion beam processing. The continuum model is based on a discrete surface element approach that includes first and second order sputtering and re-deposition in 2D. Atomistic effects are implicitly included by adjusting various simulation parameters to fit atomistic Monte Carlo simulations. Predicted spatial and temporal surface evolution is in good agreement with focused ion beam (FIB) experiments.
    OriginalspracheEnglisch
    Seiten (von - bis)936–939
    FachzeitschriftMicroelectronic Engineering
    Jahrgang83
    DOIs
    PublikationsstatusVeröffentlicht - 2006

    ÖFOS 2012

    • 103020 Oberflächenphysik
    • 210006 Nanotechnologie

    Fingerprint

    Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Simulation of ion beam direct structuring for 3D nanoimprint template fabrication“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

    Zitationsweisen